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先進陶瓷干壓成型工藝

成型工藝在整個陶瓷材料的制備過程中起著承上啟下的作用，是保證陶瓷材料及部件的性能可靠性及生產(chǎn)可重復性的關鍵。陶瓷常用的成型方法有干壓、注漿、流延以及注射等，其中干壓成型是應用廣泛的一種成型工藝，也是手機陶瓷背板主流的成型工藝之一，下面詳細了解一下陶瓷干壓成型工藝。一、干壓成型干壓成型又稱模壓成型，是常用的成型方法之一。干壓成型是將經(jīng)過造粒后流動性好，顆粒級配合適的粉料，裝入金屬模腔內，通過壓頭施加壓力，壓頭在模腔內位移，傳遞壓力，使模腔內粉體顆粒重排變形而被壓實，形成具有一定...

介紹多功能燒結爐的用途以及結構組成、優(yōu)點

多功能燒結爐采用高純石墨作發(fā)熱體，WRe熱電偶作測溫元件，用精密數(shù)顯程序控溫儀控溫，能實現(xiàn)爐溫的自動程序升降或手動升降溫。采用電動液壓升降機構對試樣(模具)加荷，由精密壓力傳感器和數(shù)顯測力計檢測加荷力的大小，加荷速度連續(xù)可調，同時可實現(xiàn)自動加荷。由二級真空機組對爐膛進行抽真空，可實現(xiàn)樣品的真空熱壓燒結。同時也可注入適量保護氣氛或反應氣氛作氣氛熱壓燒結。配置所需坩堝后可用于常規(guī)真空燒結試驗或真空熔煉。多功能燒結爐用途：設備廣泛應用于結構陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷、人工晶體、復合材...

藍寶石晶體生長及退火工藝

藍寶石(Sapphire)是一種氧化鋁(α-Al2O3)的單晶，又稱為剛玉。藍寶石晶體具有優(yōu)異的光學性能、機械性能和化學穩(wěn)定性，強度高、硬度大、耐沖刷，可在接近2000℃高溫的惡劣條件下工作，因而被廣泛的應用于紅外軍事裝置、衛(wèi)星空間技術、高強度激光的窗口材料。其*的晶格結構、優(yōu)異的力學性能、良好的熱學性能使藍寶石晶體成為實際應用的半導體GaN/Al2O3發(fā)光二極管(LED)，大規(guī)模集成電路SOI和SOS及超導納米結構薄膜等為理想的襯底材料。近年來，隨著現(xiàn)代科學技術的發(fā)展，對藍...

對箱式氣氛爐的主要結構和配置進行說明

箱式氣氛爐爐體采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低?？捎糜诘獨狻鍤獾榷栊詺怏w下產(chǎn)品燒結實驗。爐膛材料采用的進口氧化鋁多晶纖維制成，節(jié)能50%，二面或上下加熱，溫場均勻。加熱元件采用硅鉬棒或高溫鉬絲。箱式氣氛爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為1℃，溫場穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。設備主要結構和配置：1、爐殼：雙層爐殼結構，內...

碳化硅單晶材料的制備及缺陷分析

碳化硅單晶材料的制備及缺陷分析以硅（Si）、砷化鎵（GaAs）為代表的代和第二代半導體材料的高速發(fā)展，推動了微電子、光電子技術的迅猛發(fā)展。然而受材料性能所限，這些半導體材料制成的器件大都只能在200℃以下的環(huán)境中工作，不能滿足現(xiàn)代電子技術對高溫、高頻、高壓以及抗輻射器件的要求。作為第三代寬帶隙半導體材料的代表，碳化硅（SiC）單晶材料具有禁帶寬度大、熱導率高、電子飽和遷移速率高和擊穿電場高等性質。SiC器件在高溫、高壓、高頻、大功率電子器件領域和航天、軍工、核能等環(huán)境應用領域...

壓力燒結爐的應用范圍及正確操作說明

壓力燒結爐結合了脫蠟、真空燒結和后續(xù)的熱等靜壓致密化等工藝，用于硬質合金或工程陶瓷的處理，可在真空、反應氣體和高至100巴的壓力下工作。該設備的加熱元件采用陶瓷纖維加熱扳或陶瓷發(fā)熱棒，可滿足快速升溫工藝要求；溫控系統(tǒng)采用進口多段智能程序溫度控制儀控制，溫度控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性、重復性十分可靠；變頻無級調速，不銹鋼網(wǎng)帶傳送，全新的外觀設計理念，確保了產(chǎn)品平穩(wěn)輸送。設備主要用于特種陶瓷，精密陶瓷，熒光粉，發(fā)光粉，粉末冶金，鋰電池材料等無機材料的燒結。應用范圍：用于特種陶瓷,精密陶瓷，...

立式真空退火爐的用途及產(chǎn)品特點詳細說明

立式真空退火爐主要用來生產(chǎn)供二次真空用自耗電極和精密鑄造零件，大型真空感應爐也用來生產(chǎn)特殊鋼錠。冷坩堝熔煉又稱感應殼熔煉，其特點在于避免了未用耐火材料坩堝造成的污染，因而可無污染地熔煉活潑金屬及難熔金屬。真空電弧重熔是一種成熟的真空重熔技術，主要用于生產(chǎn)鈦基、鎳基或鈷基高溫合金、鈦、鋯等活潑金屬及鎢、鉬、鈮、鉭等難熔金屬，大型爐子也用來重熔特殊鋼。隨著空間技術、半導體工業(yè)的迅速發(fā)展，電子束重熔亦有很大進展，熔煉范圍業(yè)已從難熔金屬擴展到半導體材料和一些具有特殊用途的鋼種熔煉。用...

真空熱壓爐的系統(tǒng)結構大概可以分為以下六點

真空熱壓爐是一種以石墨為發(fā)熱元件的立式真空電阻爐。它具有框架式雙柱支撐。液壓缸在壓力源下升降，可用于金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等，在真空或保護氣氛中加熱和沖壓產(chǎn)品。廣泛用于高溫、高真空條件下硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等熱壓燒結。在曝氣保護下也可以通過熱壓成型和燒結。主要應用范圍：熱壓成型、高溫燒結結合，適用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高溫熱成型，如透明陶瓷、工業(yè)陶瓷等金屬及耐火材料。合金材料、陶瓷材料、碳化硅和氮化硅組成的金屬也可以用于在低于主要成分熔點的溫度...